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供应 成都真空设备厂家 surpass大口径等离子刻蚀机 半导体离子束刻蚀 反应离子刻蚀 可定制-详细情况
| 价格描述： | ￥1000000 元/套 | 最小起订： | 1套 | 供货数量： | 10套 |
| 发货期限： | 30天发货 | 发布日期： | 2024-04-07 | 有效期限： | 2024-04-08 |
| 所在地区： | 四川成都 | 物流费用： | 卖家承担运费 | 产品标签： | 镀膜机,刻蚀机,真空炉 |
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详细说明
●本设备主要用于半导体刻蚀，能够兼容离子束刻蚀和反应离子刻蚀功能，使用气态化学刻蚀剂与材料产生反应来进行刻蚀，并形成可从衬底上移除的挥发性副产品，通过真空系统排出，特别适合刻蚀熔融石英、硅、光刻胶、聚酷亚胺( PI) 薄膜、金属等材料。
